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                等离子电晕表面设╳备

                表面处理设备

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                VacuTEC-5050 标准型真空等离子设备

                产品特征:

                ·安装方便
                ·使用简单
                ·处ξ 理速度快
                ·真空度
                ·可接入辅助气体
                ·过程控制
                ·低成本处理方式



                Tantecs VacuTEC 5050真空等离子处理是适合大一些的不同材质的注塑产品的处理。该设备快速的处理速度为下游工艺的图层、胶水、印刷、喷涂提供了》最佳的产品表面能与很好的结合Ψ 性。 


                该设备的真空腔体与智能集成等离子电极组合实现了在0.1-- 3Mbar状态下等离子体的精准放电,同时处理时间也很ξ短,一般状态下针对不同的材料有不同的组合方案处理时间一般控制在20-120秒左右。


                VacuTEC2020真空等离子处理设备具有操作简单、生产加工速度快等优点。处理过程中可以加入像氩和氧气等辅助气体来提升表面处理效果,但在大多数情况下,因为高功率的等离子体放电一般不需要气体来辅助参与。


                VacuTEC2020采用先进的Tantec主机HV-X系列作为电源,特别设▅计的高频高压变压器为等离子体电极提供了强大的功率输出。

                Tantec不仅有标准的真空技术设备,也有定制设计的设①备。真空技术定制机器是专门以客户标准开发的来100%适应客户的生产线。


                特点:
                ·安装简便 仅需连接电源和压缩空气。
                ·处理速度快 高效的输出功率可以实现不同的材料在20-120秒之内即可完成快速处理。
                ·维护简单 本设备安装方便,操作简单,便于维护。
                ·腔体门设计 采用铰链连接加视窗设计方案。
                ·适用范围 可以适用于导体和非导体的任何材料表面。
                ·低成本处理工艺 几乎不需要任何辅助气
                ·处理过↓程监控 整个处理过程HV-X主机与PLC实时监控,所有的参数都显示在触摸屏上。
                ·真空度 针对于不同的①材料等离子设备释放区域在0.1-3Mba之间可以随意设定。
                ·辅助气体 处理过程◣中可以加入像氩气、氧气、氮气的辅助气体,但一般情况下不需要。




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